1200℃開放型真空雰囲気管状炉CVD装置

半導体、ナノテクノロジー、炭素繊維などの分野で使用される、真空、制御可能な雰囲気、および高温の実験環境を提供します。この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御成長、MLCC 雰囲気焼結実験などの CVD プロセスに適しています。

モデルCVD-LTF12P/ CVD-LTF12T Series
ブランドLABOAO
ポート中国のすべての港
パッケージプライウッドケースパッケージ

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説明

半導体、ナノテクノロジー、炭素繊維などの分野で使用される、真空、制御可能な雰囲気、および高温の実験環境を提供します。

この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御成長、MLCC 雰囲気焼結実験などの CVD プロセスに適しています。

機能

1.炉は多結晶ムライト繊維の真空吸着でできており、温度場は均一で、省エネは50％以上です

2.自社開発の空気転換と断熱技術により、ボックス内の各コンポーネントの耐用年数と一定の温度効果が保証されます

3.電気炉を起動すると、同時に排気ファンが自動的に回転します。テスト後、炉体の温度が 60 °C を下回るまで排気ファンが作動し続け、排気ファンが自動的に停止し、炉体の表面を効果的に保護します。

4.炉のドアは、自動電源オフ、過熱保護機能、漏れ防止機能で開かれ、安全に使用できます。

5.回路は連続加熱出力モード、デュアル回路電源を採用し、強電流と弱電流の別々の配線によりシステムの安定性が向上します

6.加熱モジュールはDC信号を採用して出力電力を調整し、制御信号への誘導電気の干渉を回避します。

7.操作ボタンには低電圧の金属ボタンを使用し、ステータスインジケータライトを備え、安全で直感的な操作が可能です。

8.上部と下部の炉体は、安全で信頼性が高く、接続が便利な航空プラグで接続されています。

9.ガス回路アセンブリは、耐食性、耐大気腐食性、耐高温性を備えた食品グレードの316ステンレス鋼でできており、非磁性です。

10.デジタルフローディスプレイ機器を採用し、マスフローコントローラーと連携し、データを収集し、フローを制御します。再現性が良く、応答速度が速く、安定性と信頼性が高いという特徴があります。（ガスマスフローコントロールシステム）

11.自動制御と手動制御の切り替え機能、自動制御モードでは、設定値を介して真空ポンプを自動的に開閉できるため、コンテナを特定の真空圧力範囲内に保つことができます。手動制御モードでは、ユーザーが真空ポンプのオン/オフボタンを介して真空ポンプを直接操作できます。さまざまな実験のニーズを満たすために。（中真空制御方式）

12.電磁弁スロースタート技術により、真空ポンプの電源を入れてから10秒後に電磁弁が開き、炉管内のシステム圧力が正確に保たれ、排気ガスが炉に戻らないことが保証されます実験効果に影響を与えるチューブシステム（中真空制御システム）

仕様

モデル	CVD-LTF12P50	CVD-LTF12P60	CVD-LTF12P80	CVD-LTF12P100
	CVD-LTF12T50	CVD-LTF12T60	CVD-LTF12T80	CVD-LTF12T100
	CVD-LTF12P50S	CVD-LTF12P60S	CVD-LTF12P80S	CVD-LTF12P100S
	CVD-LTF12T50S	CVD-LTF12T60S	CVD-LTF12T80S	CVD-LTF12T100S
使用温度範囲	300～1200℃
温度分解能	1℃
温度精度	±1℃
加熱率	0～20℃/分
加熱ゾーンの長さ	420mm
恒温帯の長さ	シングル温度帯：210mm；ダブル温度帯：280mm
最大真空	-0.1MP3
空炉加熱時間	≤15分
ファーネスチューブ構成時の加熱速度	500°C 以下 ≤5°C/min; 500-800≤ 10°C/min; 800-1000≤5°C/min; 1000-1200≤2t°C/min
外観	冷間圧延鋼板 - 表面耐薬品性コーティング
炉体	多結晶ムライト繊維
炉サイズ	外側：φ240-550mm；内側：φ120*420mm
炉管	石英管
炉管サイズ	φ50/43*1000	φ 60/53*1000	φ80/72*1000	φ 100/92*1000
ヒータ	ニッケルクロムアルミ合金線 OCr27A17MO2
火力	シングル温度帯：3KW：ダブル温度帯：3.2KW
断熱層	二重層強制空気転換
道を開く	クラムシェルバックフリップ（約100度）
コントローラ	P: インポートされたプログラム温度制御デジタル表示; T: 7 インチカラータッチスクリーンプログラム温度制御
制御方法	マイコン PID 制御 / S 型 2 温度帯 1 温度制御
セットタイプ	P: アクション、デジタル表示設定の 5 つのボタンをタッチします。 T：指タッチ＆タップで設定
表示方法	P: ダブルライン LED デジタル表示; T：カラー液晶ディスプレイ
タイミング	0～999.9h
実行機能	定値演算。プログラム操作
プログラムモード	P: プログラムの実行、4 つのカーブ、合計 40 ステップ。 T：最大50ステップ、ストアドプログラム呼び出し可能
センサー	K型熱電対
補助機能	P: 補正機能; T：補正機能、リアルタイムカーブ記録、Uディスクデータエクスポート
安全装置	過電流漏電保護スイッチ
空気経路の数	3チャンネル（特定のニーズに応じてエアチャンネルの数を選択できます）
流量範囲	0-0500sccm (標準ml/分、オプション) 窒素標準
精度	±1%F.S.
反応時間	≤4秒
使用温度（流量計）	5～45℃
仕事の圧力	入口圧力 0.05～0.3MPa（ゲージ圧）
システム接続	KFワンタッチベローズ、高真空手動フラッパーバルブ、デジタル表示真空測定器を採用
システム真空範囲	10～100Pa
真空ポンプ	二段式メカニカルポンプの理論到達真空度は3×10-1Pa、排気量は4L/S、排気口にはオイルフィルターを装備、定格電圧は200V、出力は0.55Kw
CVDシステム構成	1200度オープン管状真空炉（オプションのシングル温度ゾーン、ダブル温度ゾーン）マルチチャンネルマスフローコントロールシステムツイスト真空システム
炉体寸法	980mm×400mm×600mm
システム寸法	770mm×580mm×778mm
システムの総重量	210kg

私たちを選ぶ理由

競争力のある価格での工場直販
CE と ISO の認定を受けた最高の品質
優れた製品 OEM および ODM カスタマイズ能力
生産と納期厳守を約束する
完璧なアフターサービス、無料の製品付属品
真空雰囲気管状炉マシンの研究開発と製造における 15 年の経験

私たちの工場

標準的な制作ワークショップと完全な制作チームがあります。ひとつひとつの製品に真摯に向き合い、責任感を持って取り組んでいます。私たちの研究開発チームは、設計エンジニア、技術スペシャリスト、有資格スペシャリスト、プロセス管理マネージャーなどの多面的な専門エンジニアで構成されています。当社の有資格スペシャリストは、製品設計を含む品質プロセス管理システムに基づいて、プロセスの包括的な監督を厳密に実現しています。、研究開発、テスト、生産、品質検査、パッケージング

梱包と配送

当社の製品パッケージは長期にわたって実証されており、通常は合板箱またはトレイ付きのカートンが使用されます。商品の重さやサイズに応じて適切な梱包を手配させていただきます。もちろん、梱包形態もお選びいただけます。

お客様の事例

当社の実験器具および機器は、多くの科学研究所、科学研究機関、大学、病院、疾病管理センターおよびその他の機関で使用されており、多くの有名なバイオ医薬品、新エネルギー、エレクトロニクス企業、食品加工、環境保護など。企業の協力、安定した信頼性の高い製品は、世界 120 か国以上に輸出され、高い評価を受けています。LABOAO を信じてください。私たちは共に成長します!