真空雰囲気管状炉 中国のメーカーとサプライヤー
1400℃真空雰囲気管状炉CVD装置
1400℃真空雰囲気管状炉CVD装置

1400℃真空雰囲気管状炉CVD装置

真空、制御された雰囲気、高温の実験環境を提供します。 この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御成長、MLCC 雰囲気焼結実験などの CVD プロセスに適しています。
  • モデルCVD-LTF14P/ CVD-LTF14T Series
  • ブランドLABOAO
  • ポート中国のすべての港
  • パッケージプライウッドケースパッケージ
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説明

真空、制御された雰囲気、高温の実験環境を提供します。

この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御成長、MLCC 雰囲気焼結実験などの CVD プロセスに適しています。

機能

1.炉は多結晶ムライト繊維の真空吸着でできており、温度場は均一で、省エネは50%以上です

2.空気転換と断熱技術により、ボックス内の各コンポーネントの耐用年数と一定の温度効果が保証されます

3. 電気炉を起動すると、同時に排気ファンが自動的に回転します。 テスト後、炉体の温度が 60 °C を下回るまで排気ファンが作動し続け、排気ファンが自動的に停止し、炉体の表面を効果的に保護します。

4.使用の安全性を確保するための自動電源オフ、過熱保護機能、漏れ保護機能

5.回路は連続加熱出力モード、デュアル回路電源を採用し、強弱電流の個別配線によりシステムの安定性が向上します

6.加熱モジュールは、制御信号への誘導電気の干渉を回避する出力電力を調整するためにDC信号を採用しています。

7.温度または老化によって引き起こされる温度制御効果の自動補償 炭化ケイ素ロッドの抵抗値の変化に対する不正確さと人為的な調整の危険性を回避します

8.デジタルフローディスプレイ機器を採用し、マスフローコントローラーと協力し、データを収集し、フローを制御します。 再現性が良く、応答速度が速く、安定性と信頼性が高いという特徴があります。 (ガスマスフローコントロールシステム)

9.自動制御と手動制御の切り替え機能、自動制御モードでは、設定値を介して真空ポンプを自動的にオン/オフして、容器を特定の真空圧力範囲内に保つことができます。 手動制御モードでは、ユーザーが真空ポンプのオン/オフ ボタンを介して真空ポンプを直接操作できます。 さまざまな実験のニーズを満たすために。 (中真空制御方式)

10 電磁弁スロースタート技術により、真空ポンプの電源を入れてから 10 秒後に電磁弁が開き、ファーネス チューブ内のシステム圧力が正確に保たれ、排気ガスがシステムに戻らないようになります。 実験効果に影響を与えるファーネスチューブ方式(中真空制御方式)

仕様

モデル

CVD-LTF14P40

CVD-LTF14P50

CVD-LTF14P60

CVD-LTF14P80

CVD-LTF14T40

CVD-LTF14T50

CVD-LTF14T60

CVD-LTF14T80

使用温度範囲

300~1400

温度分解能

1

温度管理

± 1

加熱率

0~20/

加熱ゾーンの長さ

200mm

400mm

恒温帯の長さ

70mm

140mm

真空度

-0.1MPa

空炉加熱時間

≤15

ファーネスチューブ構成時の加熱速度

500以下 ≤5/min;   500-1000≤10/min; 1000-1200≤5/min; 1000-1400≤2/min

外観

表面に耐薬品性コーティングを施した冷間圧延鋼板

炉体

多結晶ムライト繊維

炉サイズ

360*350*350mm

560*350*350mm

炉管

コランダムチューブ

炉管サイズ

Φ40/34*1000

Φ50/44*1000

Φ60/50*1000

Φ80/70*1000

ヒータ

炭化ケイ素棒

火力

3KW

5KW

断熱層

二重層強制空気転換

道を開く

いいえ

コントローラ

P: インポートされたプログラム温度制御デジタル表示; T: 7 インチ カラー タッチ スクリーン プログラム温度制御

制御方法

マイコンPID制御を利用する

設定方法

P: アクション、デジタル表示設定の 5 つのボタンをタッチします。 T:指タッチ&タップで設定

表示方法

P: ダブルライン LED デジタル表示; T:カラー液晶ディスプレイ

タイミング

0~999.9時間

実行機能

定値運転、プログラム運転

プログラムモード

P: プログラムの実行、4 つのカーブ、合計 40 ステップ。 T50ステップでストアドプログラムを呼び出すことができます

センサー

S型熱電対

補助機能

P: 補正機能; T:補正機能、リアルタイムカーブ記録、Uディスクデータエクスポート

安全装置

過電流漏電保護スイッチ

空気経路の数

3チャンネル(特定のニーズに応じてエアチャンネルの数を選択できます)

流量範囲

0-0500sccm (標準 ml/分、オプション) 窒素標準

±1%F.S.

精度

反応時間

≤4

使用温度(流量計)

545

仕事の圧力

入口圧力 0.050.3MPa(ゲージ圧)

システム接続

KFワンタッチベローズ、高真空手動フラッパーバルブ、デジタル表示真空測定器を採用

システム真空範囲

10100Pa

真空ポンプ

二段式メカニカルポンプの理論到達真空度は3×10-1Pa、排気量は4L/s、排気口にはオイルフィルターを装備、定格電圧は200V、出力は0.55Kw

CVDシステム構成

1400度真空管状炉 マルチチャンネルマスフローコントロールシステム 真空システム

応用

  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 材料科学と研究
    材料科学と研究
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 産業および製造業
    産業および製造業
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 品質管理とテスト
    品質管理とテスト
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 研究室構成設備
    研究室構成設備

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