真空雰囲気管状炉 中国のメーカーとサプライヤー
1600℃真空雰囲気管状炉CVD装置
1600℃真空雰囲気管状炉CVD装置

1600℃真空雰囲気管状炉CVD装置

1600℃の真空・大気管状炉CVD装置(CVD-TF)は、真空、制御雰囲気、高温の実験環境を提供し、半導体、ナノテクノロジー、ファイバーなどの分野で使用されています。 この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御可能な成長、セラミック コンデンサ (MLCC) 雰囲気焼結およびその他の実験などの CVD プロセスに適しています。
  • モデルCVD-LTF16P/ CVD-LTF16T Series
  • ブランドLABOAO
  • ポート中国のすべての港
  • パッケージプライウッドケースパッケージ
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説明

1600℃の真空・大気管状炉CVD装置(CVD-TF)は、真空、制御雰囲気、高温の実験環境を提供し、半導体、ナノテクノロジー、ファイバーなどの分野で使用されています。 この CVD 成長システムは、炭化ケイ素コーティング、セラミック基板の導電性試験、ZnO ナノ構造の制御可能な成長、セラミック コンデンサ (MLCC) 雰囲気焼結およびその他の実験などの CVD プロセスに適しています。

機能

1.炉は多結晶ムライト繊維の真空吸着でできており、温度場は均一で、省エネは50%以上です

2.自社開発の空気転換と断熱技術により、ボックス内の各コンポーネントの耐用年数と一定の温度効果が保証されます

3.電気炉を起動すると、同時に排気ファンが自動的に回転します。 テスト後、炉体の温度が 60 °C を下回るまで排気ファンが作動し続け、排気ファンが自動的に停止し、炉体の表面を効果的に保護します。

4.炉のドアは、自動電源オフ、過熱保護機能、漏れ防止機能で開かれ、安全に使用できます。

5.回路は連続加熱出力モード、デュアル回路電源を採用し、強電流と弱電流の別々の配線によりシステムの安定性が向上します

6.加熱モジュールはDC信号を採用して出力電力を調整し、制御信号への誘導電気の干渉を回避します。

7.操作ボタンには低電圧の金属ボタンを使用し、ステータスインジケータライトを備え、安全で直感的な操作が可能です。

8.上部と下部の炉体は、安全で信頼性が高く、接続が便利な航空プラグで接続されています。

9.ガス回路アセンブリは、耐食性、耐大気腐食性、耐高温性を備えた食品グレードの316ステンレス鋼でできており、非磁性です。

10.デジタルフローディスプレイ機器を採用し、マスフローコントローラーと連携し、データを収集し、フローを制御します。 再現性が良く、応答速度が速く、安定性と信頼性が高いという特徴があります。 (ガスマスフローコントロールシステム)

11.自動制御と手動制御の切り替え機能、自動制御モードでは、設定値を介して真空ポンプを自動的に開閉できるため、コンテナを特定の真空圧力範囲内に保つことができます。 手動制御モードでは、ユーザーが真空ポンプのオン/オフ ボタンを介して真空ポンプを直接操作できます。 さまざまな実験のニーズを満たすために。 (中真空制御方式)

12.電磁弁スロースタート技術により、真空ポンプの電源を入れてから10秒後に電磁弁が開き、炉管内のシステム圧力が正確に保たれ、排気ガスが炉に戻らないことが保証されます 実験効果に影響を与えるチューブシステム(中真空制御システム)

13.過熱警報、メニューロック、過熱防止、電源復帰遅延。

14.一方向弁技術を使用して、安全性を確保するために、ガスの流れは制御可能な圧力範囲内で制御されます。

15.ガス混合タンク装置を採用し、ガスが漏れないよう十分に混合してから作業室に導入します。

仕様

モデル

CVD-LTF16P50

CVD-LTF16P60

CVD-LTF16P80

CVD-LTF16P100

CVD-LTF16P60S

CVD-LTF16P80S

CVD-LTF16P100S

CVD-LTF16T50

CVD-LTF16T60

CVD-LTF16T80

CVD-LTF16T100

CVD-LTF16P60S

CVD-LTF16T80S

CVD-LTF16T100S

使用温度範囲

300~1600

温度分解能

1

温度管理

± 1

加熱率

0~20/

加熱ゾーンの長さ

260mm

600mm

恒温帯の長さ

120mm

300mm

真空度

-0.1MPa

空炉加熱時間

15

外観

表面に耐薬品性コーティングを施した冷間圧延鋼板

炉体

多結晶ムライト繊維

炉サイズ

440*390*330

780*390*330

炉管

コランダムチューブ

炉管サイズ

φ50*1000

φ60*1000

φ80*1000

φ100*1000

φ60*1200

φ80*1200

φ100*1200

ヒータ

シリコンモリブデン棒

火力

4KW

4KW

10KW

10KW

断熱層

二重層強制空気転換

コントローラ

P: インポートされたプログラム温度制御デジタル表示; T: 7 インチ カラー タッチ スクリーン プログラム温度制御

制御方法

マイコンPID制御S2温度帯別温度制御を採用

設定方法

P: アクション、デジタル表示設定の 5 つのボタンをタッチします。 T:指でタッチして設定

表示方法

P: ダブルライン LED デジタル表示; T:カラー液晶ディスプレイ

タイミング

0~999.9時間

実行機能

定値運転、プログラム運転

プログラムモード

P: プログラム実行、4 つのカーブ、合計 40 ステップ。 T50ステップでストアドプログラムを呼び出すことができます

センサー

S型熱電対

補助機能

P: 補正機能; T:補正機能、リアルタイムカーブ記録、Uディスクデータエクスポート

安全装置

過電流漏電保護スイッチ

過電流保護スイッチ

空気経路の数

3チャンネル(特定のニーズに応じてエアチャンネルの数を選択できます)

流量範囲

0-0500sccm (標準 ml/分、オプション) 窒素標準

精度

±1%F.S.

反応時間

≤4

使用温度(流量計)

545

仕事の圧力

入口圧力 0.050.3MPa(ゲージ圧)

システム接続

KFワンタッチベローズ、高真空手動フラッパーバルブ、デジタル表示真空測定器を採用

システム真空範囲

10100Pa

真空ポンプ

二段式メカニカルポンプの理論到達真空度は3×10-1Pa、排気量は4L/s、排気口にはオイルフィルターを装備、定格電圧は200V、出力は0.55Kw

CVDシステム構成

1600度真空管状炉(オプションのシングル温度ゾーン、ダブル温度ゾーン) マルチチャンネルマスフローコントロールシステム 真空システム

応用

  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 材料科学と研究
    材料科学と研究
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 産業および製造業
    産業および製造業
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 品質管理とテスト
    品質管理とテスト
  • Application of 真空雰囲気管状炉 in 研究室構成設備
    研究室構成設備

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